精密气浮运动平台特点：
非接触/零摩擦力/滑顺/直线精度/洁净
简介：
台湾开发设计精密气浮运动平台，非接触气静压导轨，零磨耗，确保设备精度性能
实现次微米级定位、重复、水准跳动与直线精度，使用日系直线电机驱动，达到平台运动完全零损耗。。适用于光电半导体制程、检测设备.精密激光加工设备。
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规格参数: 移动台面尺寸：275X275 mm 标准行程：50/100/150/200/300/400/500 mm 定位精度：±0.2 ~±0.75μm重复精度:±0.1 ~±0.5μm 直线精度：±0.1 ~±0.5μm 标准连续推力：93/114/140/170 N 最大速度：1 m/s 最大载重：35 kg 工作压力：0.55 MPa 空压需求量：<35 L/min |
精密检测、激光、光电半导体设备用，高刚性气浮平台 行程：0~150 mm 定位/重复精度：0.3/0.2μm 水平/垂直直线度：0.1/0.1μm 最大载重：25Kg |
客制化专用气浮运动平台、系统 行程: 0~300 mm 定位/重复精度: 0.3/0.2μm 水平/垂直直线度: 0.1/0.2μm 最大载重: 45Kg
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 小型对位平台/50mm |
小型对位平台/100mm
|  检测设备/170mm |
 齿科设备/150mm |  精微制造系统/250mm |
 雷射切割设备/320mm
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模块型精密气浮运动平台（开发中型式）
客制化专用气浮运动平台、系统：拼接导轨技术 -工作台面：406x406mm -行程：500 mm -定位/重复精度：±0.3/±0.5μm -水准/垂直直线度：±0.5/±0.5μm -最大载重：100Kg
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臥式气浮回转定位轴： -旋转盘面：直径90 mm -行程：360度，连续 -回转定位/重复精度：±2/±1 arcsec -径向/轴向回转误差：±0.2/±0.2μm -最大载重：10Kg |